Verios 是 FEI 领先的 XHR（极高分辨率）SEM 系列的第二代产品。在尖端半导体制造和材料科学应用中，它可在 1 至 30 kV 范围内提供亚纳米量级分辨率以及增强的对比度，满足材料精密测量所需，同时又不会削弱传统扫描电子显微镜 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、样本灵活性和易用性等优势。

    可在 1 至 30 kV 范围内提供亚纳米量级分辨率以及增强的对比度，满足材料精密测量所需，同时又不会削弱传统扫描电子显微镜 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、样本灵活性和易用性等优势。可以处理大量敏感的生物样本，并迅速生成高分辨率图像，从而洞察细胞器的关键功能和过程。 

Verios XHR SEM 优势

• 全新的高对比度检测器 - 对敏感的生物样本进行最佳成像

• 电子束减速 - 在极低的电压下提供高分辨率成像和高表面灵敏度

• 电子束熄灭装置 - 限制敏感的生物样本的剂量

• 静电扫描 - 最大限度减少图像失真，并改善成像速度，从而进一步提高工作效率和质量

Verios 的电子工业应用

      Verios XHR SEM 推出了全新的检测器硬件，将 SEM 的观测能力进一步拓展至 20 nm 亚纳米量级半导体器件。Verios 可提供最佳的低电压 SEM 分辨率和材料对比度，能够让半导体工艺控制实验室测量对电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结构。  Verios 还包括一些易于使用的新功能，能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供最低的每样本成像和测量成本。

Verios 的材料科学应用

      对材料科学家来说，Verios 可以将亚纳米表征拓展到当下正在开发的全新材料（例如催化剂颗粒、纳米管、孔隙、界面、生物对象和其他纳米量级结构），从而让他们获得重要的新发现。无需转而采用 TEM 或其他成像技术便可获得高分辨率、高对比度图像。Verios 可灵活用于各类研究应用，能够容纳全尺寸晶圆或冶金样本之类的大样本。您可以在高电流模式下执行快速分析，也可以开展精确的原型设计应用，例如电子束感应式材料直接沉积或光刻。 

核心参数：

背散射电子图像分辨率     0.6 nm from 2 kV to 30 kV 0.7 nm @1kV 1 nm @ 500 V

二次电子图象分辨率        40X – 2MX

加速电压                  0.2~30kV

       放大倍数                  6~1,000,000x

       仪器种类                  场发射